Couches minces

Pulvérisation cathodique :

La plateforme est équipée de deux réacteurs permettant les dépôts de couches minces multicouches avec contrôle de la stœchiométrie:

Pulvérisation cathodique Magnetron RF PLASSYS MP300S (1997)

• 2 Cathodes Magnétron (1’)
• Générateur RF
• Atmosphère Réactive (Ar, N₂, O₂)
• Dépôt matériaux conducteurs, isolants, semi-conducteurs
• Contrôle Température Substrat (Chauffage 600°C)

Pulvérisation Cathodique Magnetron DC multicible PLassys MP600S

• Co-pulvérisation (clusters)
• 2 Cathodes Magnétron (2’’)
• 2 Générateurs RF, 1 Générateur DC
• Atmosphère Réactive (Ar, N₂, O₂)
• Dépôt matériaux conducteurs, isolants, semi-conducteurs
• Contrôle Température Substrat (Chauffage 800°C)
• Pilotage assurée par ordinateur

Évaporation thermique :

La plateforme dispose d'un bâti équipé d'une balance à quartz  pour les dépôts de métaux (Or, Cr) à épaisseur et rugosité contrôlées

Plassys ME 300 (2008)

• Sources résistives
• Dépôt métallique (Cr, Or,..)
• Mesure Épaisseur (Balance Quartz)
• Contrôle Température Substrat :
•  - Chauffage (600°C)
•  - Refroidissement (-40°C)

Dip Coating

Contrôle:

• Vitesse substrat
• Température
• Humidité Relative

Spin coater avec programmateur :

Contrôle et répétabilité des paramètres du process (accélération, vitesse, décélération)

Microscope à force atomique

Imagerie, mesures mécaniques de routine

Microscopies à champ proche (AFM, EFM, MFM et STM) et optiques (SEEC)

Echantillons

• Nature: isolants ou conducteurs
• Préparation: adsorbés sur une surface plane
• Dimension: jusqu’à 10 cm 

Scanners

• XY= 10 ´ 10 m m Zmax=2mm : résolution atomique
• XY= 100 ´ 100 m m Zmax=7mm + closed-loop (grande précision dans le replacement)

Environnements

• T empérature: -20°C à 300°C
• Liquide (cellule, circulation)
• Atmosphère contrôlée (cloche)

Modes d’analyses

• Imagerie 3D haute résolution ® Mesures é lectrique (et magnétique)
• Spectroscopie de force 
• Modification de surface sous pointe 
•  Couplage microscopie-optique